晶體分析儀

簡(jiǎn)要描述：晶體分析儀是利用X射線衍射原理分析物質(zhì)內(nèi)部結(jié)構(gòu)的一種大型精密分析器各項要求，是多晶體分析的Z基本方法解決方案。廣泛用于教學(xué)構建、工業(yè)傳承、農(nóng)業(yè)國防和科研領(lǐng)域方式之一。

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詳情介紹

晶體分析儀是利用X射線衍射原理分析物質(zhì)內(nèi)部結(jié)構(gòu)的一種大型精密分析器意料之外，是多晶體分析的zui基本方法優勢領先。廣泛用于教學(xué)迎來新的篇章、工業(yè)、農(nóng)業(yè)國防和科研領(lǐng)域推動並實現。

　　DXJ-2000型晶體分析儀高壓控制單元采用單片機(jī)控制薄弱點，并有故障診斷功能，儀器整機(jī)性能穩(wěn)定可靠優化程度，主要技術(shù)指標(biāo)如下：

　　X射線發(fā)生器部分

　　●額定輸出功率：3kW積極性；

　　●管電壓：10~60kV 　1kV/step；

　　●管電流：5~80mA 　1mA/step不斷豐富；

　　●管電壓實施體系、管電流穩(wěn)定度：<0.01%；

　　●有過壓各有優勢、過流效果較好、過功率、無壓持續、無水等多個領域、X射線管工作水溫等保護(hù)；

　　●kV產品和服務、mA升降應用擴展，光閘開關(guān)由微機(jī)控制功能。

　　X射線防護(hù)

　　●鉛玻璃防護(hù)增多，光閘窗口與防護(hù)罩連動(dòng)活動上，防護(hù)罩外射線計(jì)量不大于1μSv/h。

　　X射線管

　　●zui大額定功率：2kW進一步推進、焦點(diǎn)尺寸：1×10mm導向作用；

　　●靶材：Cu靶或其他靶材；

　　●濾波片：Ni或與靶材匹配示範推廣。

　　X射線照相機(jī)

　　●勞厄相機(jī)：用微X射線衍射對(duì)晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析堅持好；

　　●德拜相機(jī)：用X射線衍射對(duì)微小微量的樣品進(jìn)行分析。